國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè),中企華助力拓荊科技科創(chuàng)板成功上市
發(fā)布時間:2022-04-20 來源:中企華 打印 作者:中企華 字號:小中大
2022年4月20日,國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè),拓荊科技股份有限公司(股票簡稱:拓荊科技,股票代碼:688072)在上交所科創(chuàng)板成功上市。該股上市首日開盤價95.01元/股,較發(fā)行價71.88 元/股上漲32.18%。
關(guān)于拓荊科技
拓荊科技主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備、原子層沉積(ALD)設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積(SACVD)設(shè)備三個產(chǎn)品系列,已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線,并已展開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。
拓荊科技經(jīng)過十余年的創(chuàng)新發(fā)展,已成為國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的集成電路PECVD、SACVD設(shè)備廠商,也是國內(nèi)領(lǐng)先的ALD設(shè)備廠商。公司以國家級高層次人才為核心,已經(jīng)建成了一支國際化、專業(yè)化的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備研發(fā)技術(shù)團(tuán)隊。公司先后多次承擔(dān)國家重大專項/課題,堅持自主創(chuàng)新,構(gòu)建了完善的知識產(chǎn)權(quán)體系,擁有多項國際先進(jìn)的核心技術(shù),設(shè)備性能及關(guān)鍵指標(biāo)均達(dá)國際同類設(shè)備水平。
公司通過在薄膜沉積設(shè)備這一半導(dǎo)體核心設(shè)備細(xì)分領(lǐng)域的積累和快速發(fā)展,已經(jīng)成為國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè),三次獲得中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會頒發(fā)的“中國半導(dǎo)體設(shè)備五強企業(yè)”稱號。公司設(shè)備以優(yōu)異的薄膜性能、具有競爭力的生產(chǎn)成本、高效的售后服務(wù),贏得了廣泛的市場空間。目前,公司已形成覆蓋二十余種工藝型號的薄膜沉積設(shè)備,滿足下游客戶晶圓制造產(chǎn)線多種薄膜沉積工藝需求,公司產(chǎn)品已廣泛用于中芯國際、華虹集團(tuán)、長江存儲、長鑫存儲等國內(nèi)主流晶圓廠產(chǎn)線。
拓荊科技以建立“世界領(lǐng)先的薄膜設(shè)備公司”為愿景,未來將繼續(xù)致力于高端半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,擴(kuò)大現(xiàn)有設(shè)備市場占有率,提高公司設(shè)備的技術(shù)先進(jìn)性,豐富公司設(shè)備種類,拓展技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域,并開拓國際市場。
從首次引進(jìn)戰(zhàn)投到股改八年時間,中企華大連分公司負(fù)責(zé)人、拓荊科技項目總負(fù)責(zé)人王晨煜及其團(tuán)隊一路相伴,以嚴(yán)謹(jǐn)認(rèn)真的工作態(tài)度和深厚扎實的專業(yè)能力,為拓荊科技提供了全方位的專業(yè)評估服務(wù)。借此機(jī)會,我們對拓荊科技成功登陸科創(chuàng)板表示衷心的祝賀,祝愿拓荊科技的明天更加輝煌!