2022年4月20日，國內半導體設備行業領軍企業，拓荊科技股份有限公司（股票簡稱：拓荊科技，股票代碼：688072）在上交所科創板成功上市。該股上市首日開盤價95.01元/股，較發行價71.88 元/股上漲32.18%。

      拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

      拓荊科技經過十余年的創新發展，已成為國內唯一一家產業化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商，也是國內領先的ALD設備廠商。公司以國家級高層次人才為核心，已經建成了一支國際化、專業化的半導體薄膜沉積設備研發技術團隊。公司先后多次承擔國家重大專項/課題，堅持自主創新，構建了完善的知識產權體系，擁有多項國際先進的核心技術，設備性能及關鍵指標均達國際同類設備水平。

      公司通過在薄膜沉積設備這一半導體核心設備細分領域的積累和快速發展，已經成為國內半導體設備行業的領軍企業，三次獲得中國半導體行業協會頒發的“中國半導體設備五強企業”稱號。公司設備以優異的薄膜性能、具有競爭力的生產成本、高效的售后服務，贏得了廣泛的市場空間。目前，公司已形成覆蓋二十余種工藝型號的薄膜沉積設備，滿足下游客戶晶圓制造產線多種薄膜沉積工藝需求，公司產品已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲等國內主流晶圓廠產線。

      拓荊科技以建立“世界領先的薄膜設備公司”為愿景，未來將繼續致力于高端半導體設備的研發及產業化，擴大現有設備市場占有率，提高公司設備的技術先進性，豐富公司設備種類，拓展技術應用領域，并開拓國際市場。

      從首次引進戰投到股改八年時間，中企華大連分公司負責人、拓荊科技項目總負責人王晨煜及其團隊一路相伴，以嚴謹認真的工作態度和深厚扎實的專業能力，為拓荊科技提供了全方位的專業評估服務。借此機會，我們對拓荊科技成功登陸科創板表示衷心的祝賀，祝愿拓荊科技的明天更加輝煌！